硝基咪唑類眼膏高剪切研磨分散機，高剪切研磨分散機，超高速剪切研磨分散，SGN研磨分散機是迄今為止在流體研磨分散領(lǐng)域*的一款設(shè)備。GMD2000型研磨分散機轉(zhuǎn)速Z高可達14000rpm，線速度Z高可達44m/s，設(shè)備采用膠體磨與分散均質(zhì)乳化機合二為一的方式，使GM2000型設(shè)備即研磨、剪切、分散、均質(zhì)、乳化等諸多功能。目前SGN研磨分散機在流體研磨分散領(lǐng)域有著極其廣泛的應(yīng)用。

陶瓷研磨分散機要求顆粒大小達到納米級，所以在研磨分散工藝上就需要采用一定的手段，我公司的高剪切分散機與錐體磨可為您解決這一難題。特別是錐體磨，磨頭可采用氧化鋁材質(zhì)，在研磨分散過程中不會產(chǎn)生鐵等雜質(zhì)影響陶瓷隔膜劑的效果。

超高速研磨機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

GMD2000/04中試型研磨分散機轉(zhuǎn)速Z高可達14000rpm，SGN中試型研磨分散機在參數(shù)上是SGN工業(yè)化生產(chǎn)型研磨分散機的縮放，物料中試成功后可以直接用SGN工業(yè)化研磨分散機進行大規(guī)模生產(chǎn)，不需要更改設(shè)備參數(shù)及物料配方。

GMD2000抹茶粉研磨分散機總體上來說其實是將膠體磨跟分散乳化機合二為一，在一臺設(shè)備上完成了兩臺設(shè)備聯(lián)合運行才能達到的效果。SGN抹茶粉研磨分散機開機轉(zhuǎn)速跟SGN膠體磨已經(jīng)SGN三級高剪切乳化機一樣，都可以達到9000rpm，經(jīng)變頻后轉(zhuǎn)速亦可升至14000rpm。

GMD2000珍珠粉研磨分散機 ，上海思峻機械設(shè)備有限公司 珍珠粉研磨設(shè)備具有高轉(zhuǎn)速高剪切低能耗能等優(yōu)勢，設(shè)備采用兩級結(jié)構(gòu)，*級采用的是膠體磨常用的磨頭，第二級使用的是超細(xì)分散盤，二者結(jié)合后研磨效果更佳，分散均質(zhì)效果會更好！

GMD2000/04BB霜高速研磨分散機是上海思峻機械設(shè)備有限公司 經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

GMD2000動物細(xì)胞研磨破碎勻漿機采用了二級處理結(jié)構(gòu)，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達到了*水平。